成都某半导体技术电源芯片制作厂，晶圆加工厂的过程中引发含硅、氟的特有污污废水 ，构思办理人数1200吨/日。污污废水 物质繁多，有納米级硅颗粒剂及氢氧化钠，传统意义办理工艺无法及格。 废水处理工艺的成分及从何而来 关键被废弃物 ：溶液硅（100-500nm孔径）、氟阳离子（200-300mg/L）、异丙醇 起源工艺技术 ：晶圆刻蚀废污水处理（45%）、CMP化学式机戒镜面抛光废污水处理（40%）、生产设备消毒水（15%） 补救工艺设备注意事项 创新技艺利用"化学物质结晶+重型膜溶合"技艺路线规划： 钙盐沉定 ：加药氯化钙清理氟铁离子（产生CaF2乳浊液） 水解酸化池反应迟钝 ：结合水解酸化池剂进行电解质溶液硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm孔的直径膜挪用微细顆粒 反融于体统 ：脱盐率>98%，再利用率75% 挥发心得 ：浓水段体现氟化物零进行排放 决定性效果好 氟化物氧化还原电位：<8mg/L（底于部委一个规格10mg/L） 硅的含量：<5mg/L 水产品中水回用率：70%适用降温塔皮肤补水 危废处理减轻药量：蒸发掉残余物量较传统性流程极大减少60%